Xevios多用途清洗裝置高壓脈沖噴射清除異物

Xevios多用途清洗裝置高壓脈沖噴射清除異物

兼容晶圓、石英、玻璃、藍(lán)寶石、SiC等多種材質(zhì)。
結(jié)合高壓間歇噴射、二流體噴射、各種刷子、超聲波、化學(xué)溶液等，可應(yīng)對從粗加工到各種清洗工藝。拋光后清洗至精密清洗。

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詳細(xì)介紹

Xevios多用途清洗裝置高壓脈沖噴射清除異物 特點介紹

兼容晶圓、石英、玻璃、藍(lán)寶石、SiC等多種材質(zhì)。

結(jié)合高壓間歇噴射、二流體噴射、各種刷子、超聲波、化學(xué)溶液等，可應(yīng)對從粗加工到各種清洗工藝。拋光后清洗至精密清洗。

Xevios多用途清洗裝置高壓脈沖噴射清除異物 規(guī)格參數(shù)

一種多用途清潔裝置，可在一個腔室中清除異物、有機物和金屬污染物。

[設(shè)備概述] 結(jié)合雙面擦洗清洗和化學(xué)處理的設(shè)備，適用于各種晶圓尺寸和材料

[應(yīng)用實例] 成膜前清洗外延后清洗蝕刻后拋光清洗剝離清洗

一種使用高壓脈沖噴射來清潔各種載體（盒）和盒子，同時使用鉸接式機器人與待清潔物體保持恒定距離的設(shè)備。

[應(yīng)用示例] 盒式（載體）清洗盒式清洗

用于去除頑固物質(zhì)和金屬污染物的設(shè)備

[設(shè)備概述]

集盤刷清洗、滾刷清洗、化學(xué)清洗于一體的小批量生產(chǎn)設(shè)備。

[應(yīng)用實例] 貼膜前清洗

一種在不接觸工件的情況下清潔工件正反面和邊緣的裝置。

[設(shè)備概述]

單晶圓清洗設(shè)備，用表面活性劑和純水擦洗去除拋光晶圓，然后進行兆頻超聲波噴淋、漂洗和旋轉(zhuǎn)干燥。

[應(yīng)用實例] 拋光后清洗

以過濾水或純水為介質(zhì)進行鏡面拋光、粗拋、清洗等的拋光設(shè)備。

[應(yīng)用實例] 鏡面加工、鏡面加工、端面異物清理

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