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產(chǎn)品展示/ Product display

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  • GS-313D/GS-414D日本gs-clean自動式鞋底干式清洗機精密設備

    日本gs-clean自動式鞋底干式清洗機精密設備 GS-313D/GS-414D 干式自動售貨機僅使用刷子進行干洗。非常適合沙子和灰塵等輕質(zhì)污垢、面粉等遇水變質(zhì)的污垢、精密設備、干燥工廠等。安裝非常簡單,您只需連接電源即可。

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    2024-10-12

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  • SKB2001N-01/SKB2003N-01千代田CHIYODA紫外UV清洗機用于顯示器等

    千代田CHIYODA紫外UV清洗機用于顯示器等 CHIYODA SKB2001N-01/SKB2003N-01 利用紫外線將有機污染物氧化并轉(zhuǎn)化為揮發(fā)性物質(zhì),可有效去除有機污染物,且不會對材料表面造成熱損傷或表面摩擦等損害,從而很好地去除。

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    2024-10-11

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  • SKB401Y-01/SKB1101N-01日本CHIYODA紫外線清洗裝置用于有機EL等

    日本CHIYODA紫外線清洗裝置用于有機EL等 CHIYODA SKB401Y-01/SKB1101N-01 利用紫外線將有機污染物氧化并轉(zhuǎn)化為揮發(fā)性物質(zhì),可有效去除有機污染物,且不會對材料表面造成熱損傷或表面摩擦等損害,從而很好地去除。

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  • UV-208/UV-312日本techvision紫外線臭氧UV清洗裝置高精度

    日本techvision紫外線臭氧UV清洗裝置高精度 UV-208/UV-312 所謂UV(紫外線)臭氧清洗裝置,是指照射特定波長的紫外線,生成臭氧(O3),利用該生成的臭氧使有機化合物氧化·分解,從而去除工件表面的有機物污染,進行表面改性的UV臭氧清洗裝置。

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    2024-10-11

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  • TWC-200A日本進口techvision全自動光掩膜清洗裝置

    日本進口techvision全自動光掩膜清洗裝置 TWC-200A 全自動光掩膜清洗裝置《TWC-200A》是一下子去除附著在掩模上的1μm以上的顆粒和抗蝕劑殘渣的to盒的全自動光掩膜清洗裝置。

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    2024-10-11

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  • TWC-302日本techvision光掩膜清洗裝置用于半導體等

    日本techvision光掩膜清洗裝置用于半導體等 TWC-302 光掩模的清潔化是提高產(chǎn)品成品率的必要條件!

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  • TCC-803日本techvision盒式清洗裝置用于晶片盒等

    日本techvision盒式清洗裝置用于晶片盒等 TCC-803 TCC-803盒式清洗裝置”型號是以高附加價值產(chǎn)品的制造工藝中使用的晶片盒、載體、盒等的精密清洗為清洗裝置。這是一種適用于小批量多品種生產(chǎn)的緊湊型設備。

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    2024-10-11

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  • FJW系列日本taiseikogyo細泡噴射清洗機高度耐用

    日本taiseikogyo細泡噴射清洗機高度耐用 FJW系列 類型細泡噴射清洗機 目的這是清潔零件的洗衣機。

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    2024-10-11

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